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資料名：
巻： 57 号： 3S1 ページ： 03DA02.1-03DA02.7 発行年： 2018年03月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201802271147950243
整理番号：18A0910847
シリコーン油とオゾンガスを用いて堆積させた低温酸化ケイ素膜中における添加トリクロロエチレン濃度に対する堆積速度とOH含有量の依存性
Dependences of deposition rate and OH content on concentration of added trichloroethylene in low-temperature silicon oxide films deposited using silicone oil and ozone gas
HORITA Susumu
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
JAIN Puneet
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57 号： 3S1 ページ： 03DA02.1-03DA02.7 発行年： 2018年03月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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