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著者 (4件)：
資料名：
巻： 157 ページ： 192-201 発行年： 2018年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201802274841665708
整理番号：18A1944687
反応性高出力パルススパッタリングPenning放電による窒化チタン膜の作製【JST・京大機械翻訳】
Preparation of titanium carbon nitride films by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges
Kimura Takashi
(Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya, 466-8555, Japan)
,
Yoshida Ryo
(Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya, 466-8555, Japan)
,
Azuma Kingo
(Department of Electrical Materials and Engineering, University of Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo, 671-2280, Japan)
,
Nakao Setsuo
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) - Chubu, 2266-98 Anagahora, Moriyama, Nagoya, 463-8560, Japan)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 157 ページ： 192-201 発行年： 2018年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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