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J-GLOBAL ID：201902210842154413 整理番号：19A1565407

光触媒とCathilonを用いた紫外線励起研磨 -4H-SiCウェハーへの研磨適用性の追究と化学状態のXAFS分析-

Ultraviolet-excitation Polishing using Photocatalyst and Cathilon -Availability Study for 4H-SiC Wafer Polishing and XAFS Analysis of Chemical State-

著者 (3件)：

田中武司

(立命館大学総合科学技術研究機構)

滝沢優

(立命館大学理工学部物理科学科)

畑彰宏

(新コスモス電機(株))

資料名：

精密工学会誌(Web) (Journal of the Japan Society for Precision Engineering (Web))

巻： 85 号： 5 ページ： 432-439(J-STAGE) 発行年： 2019年
JST資料番号： U0462A ISSN： 1882-675X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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