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J-GLOBAL ID：201902212110450360 整理番号：19A2202059

シリコン技術向けのグラフェンと二次元材料

Graphene and two-dimensional materials for silicon technology

著者 (10件)：

AKINWANDE Deji

(Microelectronics Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. Texas at Austin, Austin, TX, USA)

SERNA Martha I.

(Microelectronics Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. Texas at Austin, Austin, TX, USA)

HUYGHEBAERT Cedric

(IMEC, Leuven, BEL)

WANG Ching-Hua

(Dep. of Electrical Engineering, Stanford Univ., Stanford, CA, USA)

WONG H.-S. Philip

(Dep. of Electrical Engineering, Stanford Univ., Stanford, CA, USA)

GOOSSENS Stijn

(ICFO-Inst. Ciencies Fotoniques, Barcelona Inst. of Sci. and Technol., Castelldefels (Barcelona), Barcelona, ESP)

KOPPENS Frank H. L.

(ICFO-Inst. Ciencies Fotoniques, Barcelona Inst. of Sci. and Technol., Castelldefels (Barcelona), Barcelona, ESP)

LI Lain-Jong

(Corporate Res., Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), Hsinchu, TWN)

WONG H.-S. Philip

(Corporate Res., Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), Hsinchu, TWN)

KOPPENS Frank H. L.

(ICREA-Institutetucio Catalana de Recerca i Estudis Avancats, Barcelona, ESP)

資料名：

Nature (London) (Nature (London))

巻： 573 号： 7775 ページ： 507-518 発行年： 2019年09月26日
JST資料番号： D0193B ISSN： 0028-0836 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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