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文献
J-GLOBAL ID:201902222048645339   整理番号:19A1165590

高精度位相シフト電子線ホログラフィーによるIII-V族化合物半導体の精密解析と高速観察への可能性

著者 (6件):
山本和生
(ファインセラミックスセ ナノ構造研)
穴田智史
(ファインセラミックスセ ナノ構造研)
仲野靖孝
(ファインセラミックスセ ナノ構造研)
野村優貴
(パナソニック)
松本実子
(ファインセラミックスセ ナノ構造研)
平山司
(ファインセラミックスセ ナノ構造研)

資料名:
顕微鏡  (Microscopy)

巻: 54  号:ページ: 31-38  発行年: 2019年04月30日 
JST資料番号: Y0541A  ISSN: 1349-0958  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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