文献
J-GLOBAL ID:201902223506381264
整理番号:19A1416244
液体シリコン中の炭素拡散と偏析の原子論的シミュレーション【JST・京大機械翻訳】
Atomistic simulations of carbon diffusion and segregation in liquid silicon
著者 (4件):
Luo Jinping
(School of Energy and Power Engineering, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, Shaanxi 710049, China)
,
Alateeqi Abdullah
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of Pennsylvania, Philadelphia, Pennsylvania 19104, USA)
,
Liu Lijun
(School of Energy and Power Engineering, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, Shaanxi 710049, China)
,
Sinno Talid
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of Pennsylvania, Philadelphia, Pennsylvania 19104, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
122
号:
22
ページ:
225705-225705-9
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)