文献
J-GLOBAL ID:201902230607989276
整理番号:19A0014325
GaAs/AlGaAsのヘテロ構造における2次元電子ガスからのサブミクロンスケールHall素子の作製と特性評価【JST・京大機械翻訳】
Fabrication and characterization of sub-micron scale hall devices from 2-dimensional electron gas at the heterostrutcure of GaAs/AlGaAs
著者 (6件):
Keswani Neeti
(Department of Physics, Indian Institute of Technology, Delhi, India)
,
Nakajima Yoshikata
(Bio-Nano Electronic Research Centre, Toyo University 2100, Kujirai, Kawagoe, Saitama 350-8585, Japan)
,
Chauhan Neha
(Bio-Nano Electronic Research Centre, Toyo University 2100, Kujirai, Kawagoe, Saitama 350-8585, Japan)
,
Kumar Sakthi
(Bio-Nano Electronic Research Centre, Toyo University 2100, Kujirai, Kawagoe, Saitama 350-8585, Japan)
,
Ohno H.
(Tohoku University, Sendai, Japan)
,
Das Pintu
(Department of Physics, Indian Institute of Technology, Delhi, India)
資料名:
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻:
1953
号:
1
ページ:
050071-050071-4
発行年:
2018年
JST資料番号:
D0071C
ISSN:
0094-243X
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)