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著者 (8件)：
資料名：
巻： 451 ページ： 89-92 発行年： 2019年
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201902233360779673
整理番号：19A1312986
照射によって引き起こされたSi/SiO_2界面における照射損傷の原子および電子分析:第一原理計算【JST・京大機械翻訳】
Atomic and electron analyzing of irradiation damage in Si/SiO2 interfaces caused by irradiation: First-principle calculation
Wei Yidan
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
,
Li Xingji
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
,
Liu Chaoming
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
,
Liu Yong
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
,
Zhao Jinyu
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
,
Dong Shangli
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
,
Li Hongxia
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
,
Wang Qingyan
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
資料名：
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 451 ページ： 89-92 発行年： 2019年
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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