文献
J-GLOBAL ID:201902233410623682
整理番号:19A2920411
ポリジメチルシロキサンナノインプリントリソグラフィーを用いた色素増感太陽電池のためのテクスチャ基板の作製【JST・京大機械翻訳】
Fabrication of textured substrates for dye-sensitized solar cells using polydimethylsiloxane nanoimprint lithography
著者 (4件):
Yang Na
(Nagoya University, Graduate School of Engineering, Nagoya, Japan)
,
Oka Chiemi
(Nagoya University, Graduate Department of Micro-Nano Mechanical Science and Engineering, Nagoya, Japan)
,
Hata Seiichi
(Nagoya University, Graduate Department of Micro-Nano Mechanical Science and Engineering, Nagoya, Japan)
,
Sakurai Junpei
(Nagoya University, Graduate Department of Micro-Nano Mechanical Science and Engineering, Nagoya, Japan)
資料名:
Advanced Optical Technologies
(Advanced Optical Technologies)
巻:
8
号:
6
ページ:
491-497
発行年:
2019年
JST資料番号:
W3762A
ISSN:
2192-8576
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)