文献
J-GLOBAL ID:201902236012366621
整理番号:19A1604357
設計の複雑さとCD安定性としての効果的なマスクパターン形成戦略【JST・京大機械翻訳】
Effective Mask Patterning Strategy as Design Complexity and CD Stability
著者 (5件):
Ham Young
(R&D, Photronics Inc., Boise, Idaho 83717, US)
,
Choi Yohan
(R&D, Photronics Inc., Boise, Idaho 83717, US)
,
Green Michael
(R&D, Photronics Inc., Boise, Idaho 83717, US)
,
Ramadan Mohamed
(R&D, Photronics Inc., Boise, Idaho 83717, US)
,
Progler Chris
(R&D, Photronics Inc., Boise, Idaho 83717, US)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
CSTIC
ページ:
1-3
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)