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著者 (4件)：
資料名：
巻： 113 号： 22 ページ： 222407-222407-5 発行年： 2018年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201902239584614653
整理番号：19A0011078
電子ホログラフィーを用いて分析した鉄およびニッケル膜における180°磁壁幅の温度依存性【JST・京大機械翻訳】
Temperature dependence of 180° domain wall width in iron and nickel films analyzed using electron holography
Niitsu K.
(Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University, Sakyo-ku, Kyoto 606-8501, Japan)
,
Tanigaki T.
(Research & Development Group, Hitachi Ltd., Hatoyama 350-0395, Japan)
,
Harada K.
(RIKEN, Center for Emergent Matter Science (CEMS), Wako 351-0198, Japan)
,
Shindo D.
(RIKEN, Center for Emergent Matter Science (CEMS), Wako 351-0198, Japan)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 113 号： 22 ページ： 222407-222407-5 発行年： 2018年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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