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J-GLOBAL ID:201902244842462563   整理番号:19A1414298

電気二重層ゲートによる金属量子点接触におけるコンダクタンスの電場制御【JST・京大機械翻訳】

Electric-field control of conductance in metal quantum point contacts by electric-double-layer gating
著者 (6件):
Shibata K.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
Yoshida K.
(Center for Photonics Electronics Convergence, Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan)
Daiguji K.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
Sato H.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
Ii T.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
Hirakawa K.
(Center for Photonics Electronics Convergence, Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 111  号: 15  ページ: 153104-153104-4  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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