文献
J-GLOBAL ID:201902244842462563
整理番号:19A1414298
電気二重層ゲートによる金属量子点接触におけるコンダクタンスの電場制御【JST・京大機械翻訳】
Electric-field control of conductance in metal quantum point contacts by electric-double-layer gating
著者 (6件):
Shibata K.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
,
Yoshida K.
(Center for Photonics Electronics Convergence, Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan)
,
Daiguji K.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
,
Sato H.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
,
Ii T.
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Tohoku Institute of Technology, Sendai 982-8577, Japan)
,
Hirakawa K.
(Center for Photonics Electronics Convergence, Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
111
号:
15
ページ:
153104-153104-4
発行年:
2017年
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)