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文献
J-GLOBAL ID:201902256642310646   整理番号:19A1889036

水素挿入グラフェン/4H-SiC(0001)の界面における非常に緩やかで異常な酸化【JST・京大機械翻訳】

Very Gradual and Anomalous Oxidation at the Interface of Hydrogen-Intercalated Graphene/4H-SiC(0001)
著者 (5件):
Maeda Fumihiko
(Department of Information Electronics, Faculty of Engineering, Fukuoka Institute of Technology, Fukuoka, Japan)
Maeda Fumihiko
(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation, Kanagawa, Japan)
Takamura Makoto
(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation, Kanagawa, Japan)
Hibino Hiroki
(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation, Kanagawa, Japan)
Hibino Hiroki
(Department of Nanotechnology for Sustainable Energy, School of Science and Technology, Kwansei Gakuin University, Hyogo, Japan)

資料名:
Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)

巻: 121  号: 47  ページ: 26389-26396  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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