Sorry, this section is only available in Japanese.
著者 (4件)：
資料名：
巻： 60 ページ： 265-273 発行年： 2019年
JST資料番号： A0734B ISSN： 0141-6359 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：201902258315329253
整理番号：19A2901151
大気圧下の超高周波プラズマを用いた低温(≦120°C)における機能性酸化けい素層の高効率形成プロセス【JST・京大機械翻訳】
Highly efficient formation process for functional silicon oxide layers at low temperatures (≦ 120 °C) using very high-frequency plasma under atmospheric pressure
Kakiuchi Hiroaki
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka, 565-0871, Japan)
,
Ohmi Hiromasa
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka, 565-0871, Japan)
,
Ohmi Hiromasa
(Research Center for Ultra-Precision Science and Technology, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka, 565-0871, Japan)
,
Yasutake Kiyoshi
(Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka, 565-0871, Japan)
資料名：
Precision Engineering
(Precision Engineering)
巻： 60 ページ： 265-273 発行年： 2019年
JST資料番号： A0734B ISSN： 0141-6359 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。