文献
J-GLOBAL ID:201902264517385213
整理番号:19A0358410
2.5MeV電子と高速中性子による結晶SiO_2におけるガラス特性点欠陥の生成【JST・京大機械翻訳】
Creation of glass-characteristic point defects in crystalline SiO2 by 2.5 MeV electrons and by fast neutrons
著者 (4件):
Skuja Linards
(Institute of Solid State Physics, University of Latvia, 8 Kengaraga str, LV1063 Riga, Latvia)
,
Ollier Nadege
(Laboratoire des Solides Irradies Ecole Polytechnique, University of Paris-Saclay, 91128 Palaiseau, France)
,
Kajihara Koichi
(Department of Applied Chemistry for Environment, Graduate School of Urban Environmental Sciences, Tokyo Metropolitan University, 1-1 Minami-Osawa, Hachioji, Tokyo 192-0397, Japan)
,
Smits Krisjanis
(Institute of Solid State Physics, University of Latvia, 8 Kengaraga str, LV1063 Riga, Latvia)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
505
ページ:
252-259
発行年:
2019年
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)