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J-GLOBAL ID：201902265697096641 整理番号：19A1951830

硫化プロセスにより調製した(Cu,Ag)_2SnS_3薄膜へのKF添加の効果【JST・京大機械翻訳】

Effect of KF Addition to (Cu,Ag)₂SnS₃ Thin Films Prepared by Sulfurization Process

著者 (8件)：

Nakashima Mitsuki

(National Institute of Technology, Wakayama College, Gobo-shi, Wakayama, 644-0023, Japan)

Hirano Shun

(National Institute of Technology, Wakayama College, Gobo-shi, Wakayama, 644-0023, Japan)

Yamaguchi Toshiyuki

(National Institute of Technology, Wakayama College, Gobo-shi, Wakayama, 644-0023, Japan)

Araki Hideaki

(National Institute of Technology, Nagaoka College, Nagaoka-shi, Niigata, 940-8532, Japan)

Katagiri Hironori

(National Institute of Technology, Nagaoka College, Nagaoka-shi, Niigata, 940-8532, Japan)

Akaki Yoji

(National Institute of Technology, Miyakonojo College, Miyakonojo-shi, Miyazaki, 940-8532, Japan)

Sasano Junji

(Toyohashi University of Technology, Toyohashi-shi, Aichi, 441-8580, Japan)

Izaki Masanobu

(Toyohashi University of Technology, Toyohashi-shi, Aichi, 441-8580, Japan)

資料名：

Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)

巻： 216 号： 15 ページ： e1800870 発行年： 2019年
JST資料番号： D0774A ISSN： 1862-6300 CODEN： PSSABA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

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