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J-GLOBAL ID：201902267050774255 整理番号：19A0365486

分子ビームエピタクシー成長中の熱曝露による酸化亜鉛膜の点欠陥発展,光学遷移および吸収端の調整【JST・京大機械翻訳】

Tuning the point-defect evolution, optical transitions, and absorption edge of zinc oxide film by thermal exposure during molecular beam epitaxy growth

著者 (6件)：

Darma Yudi

(Department of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Institut Teknologi Bandung, Bandung 40132, Indonesia)

,

Muhammady Shibghatullah

(Department of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Institut Teknologi Bandung, Bandung 40132, Indonesia)

,

Hendri Yasni Novi

(Department of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Institut Teknologi Bandung, Bandung 40132, Indonesia)

,

Sustini Euis

(Department of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Institut Teknologi Bandung, Bandung 40132, Indonesia)

,

Widita Rena

(Department of Physics, Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Institut Teknologi Bandung, Bandung 40132, Indonesia)

,

Takase Kouichi

(Department of Physics, College of Sciences and Technology, Nihon University, Chiyoda, Tokyo 101-0062, Japan)

資料名：

Materials Science in Semiconductor Processing (Materials Science in Semiconductor Processing)

巻： 93 ページ： 50-58 発行年： 2019年
JST資料番号： W1055A ISSN： 1369-8001 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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