文献
J-GLOBAL ID:201902275238266261
整理番号:19A1522633
修正Naフラックス法により成長させたGaNバルク単結晶中の貫通転位における局所電流漏れ
Local current leakage at threading dislocations in GaN bulk single crystals grown by a modified Na-flux method
著者 (5件):
HAMACHI Takeaki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TOHEI Tetsuya
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
IMANISHI Masayuki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MORI Yusuke
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SAKAI Akira
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
58
号:
5
ページ:
050918.1-050918.4
発行年:
2019年05月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)