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著者 (9件)：
資料名：
巻： 10809 ページ： 1080924-7 発行年： 2018年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201902278983962962
整理番号：19A0909558
EUVリソグラフィープロセスにおけるレジスト被覆と現像プロセスにおけるCD安定性と欠陥性の改善【JST・京大機械翻訳】
Improvement of CD stability and defectivity in resist coating and developing process in EUV lithography process
Kamei Yuya
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Kawakami Shinichiro
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Tadokoro Masahide
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Hashimoto Yusaku
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Shimoaoki Takeshi
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Enomoto Masashi
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Nafus Kathleen
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Sonoda Akihiro
(Tokyo Electron Kyushu Ltd. (Japan))
,
Foubert Philippe
(IMEC (Belgium))
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 10809 ページ： 1080924-7 発行年： 2018年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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