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文献
J-GLOBAL ID:201902279013089857   整理番号:19A2343478

固定電位堆積法により作製したWO_3薄膜の光学特性と光電気触媒活性の改善【JST・京大機械翻訳】

Optical properties and photoelectrocatalytic activities improvement of WO3 thin film fabricated by fixed-potential deposition method
著者 (5件):
Kangkun Niphawan
(Department of Chemistry, Faculty of Science and Technology, Rajamangala University of Technology Thanyaburi, Pathum Thani, 12110, Thailand)
Kiama Nuanlaor
(Department of Chemistry, Faculty of Science and Technology, Rajamangala University of Technology Thanyaburi, Pathum Thani, 12110, Thailand)
Saito Nobuo
(Department of Materials Science and Technology, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka, Nagaoka, 940-2188, Japan)
Ponchio Chatchai
(Department of Chemistry, Faculty of Science and Technology, Rajamangala University of Technology Thanyaburi, Pathum Thani, 12110, Thailand)
Ponchio Chatchai
(Advance Materials Design and Development (AMDD) Research Unit, Institute of Research and Development, Rajamangala University of Technology Thanyaburi, Klong 6, Thanyaburi, Pathum Thani, 12110 Thailand)

資料名:
Optik  (Optik)

巻: 198  ページ: Null  発行年: 2019年 
JST資料番号: D0251A  ISSN: 0030-4026  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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