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著者 (11件)：
資料名：
巻： 114 号： 25 ページ： 252103-252103-5 発行年： 2019年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201902287345428835
整理番号：19A1553804
極端に薄い水中間層によるIII-窒化物薄膜の適応低温共有結合【JST・京大機械翻訳】
Adaptive low-temperature covalent bonding of III-nitride thin films by extremely thin water interlayers
Gerrer Thomas
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Graff Andreas
(Fraunhofer Institute for Microstructure of Materials and Systems, Walter-Huelse-Strasse 1, 06120 Halle, Germany)
,
Simon-Najasek Michel
(Fraunhofer Institute for Microstructure of Materials and Systems, Walter-Huelse-Strasse 1, 06120 Halle, Germany)
,
Czap Heiko
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Maier Thomas
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Benkhelifa Fouad
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Mueller Stefan
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Nebel Christoph
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Waltereit Patrick
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Quay Ruediger
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
,
Cimalla Volker
(Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 114 号： 25 ページ： 252103-252103-5 発行年： 2019年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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