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文献
J-GLOBAL ID:202002225642881971   整理番号:20A2773747

3Dナノ加工のための多光子励起深紫外線フォトリソグラフィー【JST・京大機械翻訳】

Multiphoton-Excited Deep-Ultraviolet Photolithography for 3D Nanofabrication
著者 (9件):
Taguchi Atsushi
(Department of Applied Physics, Osaka University, Osaka, Japan)
Nakayama Atsushi
(Department of Applied Physics, Osaka University, Osaka, Japan)
Nakayama Atsushi
(Advanced Photonics and Biosensing Open Innovation Laboratory, AIST-Osaka University, Osaka, Japan)
Oketani Ryosuke
(Department of Applied Physics, Osaka University, Osaka, Japan)
Kawata Satoshi
(Department of Applied Physics, Osaka University, Osaka, Japan)
Kawata Satoshi
(Serendip Research, Osaka, Japan)
Fujita Katsumasa
(Department of Applied Physics, Osaka University, Osaka, Japan)
Fujita Katsumasa
(Transdimensional Life Imaging Division, Institute for Open and Transdisciplinary Research Initiatives, Osaka University, Osaka, Japan)
Fujita Katsumasa
(Advanced Photonics and Biosensing Open Innovation Laboratory, AIST-Osaka University, Osaka, Japan)

資料名:
ACS Applied Nano Materials  (ACS Applied Nano Materials)

巻:号: 11  ページ: 11434-11441  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5033A  ISSN: 2574-0970  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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