文献
J-GLOBAL ID:202002228549519233
整理番号:20A0874508
0.18μm CMOS技術におけるKバンドVCOの位相雑音に及ぼす相互接続の影響の実験的研究【JST・京大機械翻訳】
Experimental Study of the Effect of Interconnects on Phase Noise of K-Band VCO in $0.18¥ ¥mu ¥mathrm{m}$ CMOS Technology
著者 (4件):
Chen Baichuan
(Graduate School of ISEE, Kyushu University,Fukuoka,Japan)
,
Jahan Nusrat
(Chittagong University of Engineering and Technology(CUET),Bangladesh)
,
Barakat Adel
(Graduate School of ISEE, Kyushu University,Fukuoka,Japan)
,
Pokharel Ramesh K.
(Graduate School of ISEE, Kyushu University,Fukuoka,Japan)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
APMC
ページ:
1670-1672
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)