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J-GLOBAL ID:202002240417694154   整理番号:20A0495679

1.2kV 19A SiCパワーMOSFETの短絡劣化とその機構に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Investigations on the Short-Circuit Degradation and its Mechanism of 1.2-KV 19-A SiC power MOSFETs
著者 (7件):
Wang J. L.
(South China University of Technology, Guangzhou,School of Electronic and Information Engineering,Guangdong,China,510000)
Chen Y. Q.
(Institute of the Ministry of Industry and Information Technology Guangzhou,Science and Technology on Reliability Physics and Application of Electronic Component Laboratory No.5 Electronics Research,Guangdong,China,510610)
He Z. Y.
(Institute of the Ministry of Industry and Information Technology Guangzhou,Science and Technology on Reliability Physics and Application of Electronic Component Laboratory No.5 Electronics Research,Guangdong,China,510610)
En Y. F.
(Institute of the Ministry of Industry and Information Technology Guangzhou,Science and Technology on Reliability Physics and Application of Electronic Component Laboratory No.5 Electronics Research,Guangdong,China,510610)
Xu X. B.
(South China University of Technology, Guangzhou,School of Electronic and Information Engineering,Guangdong,China,510000)
Huang Y.
(Institute of the Ministry of Industry and Information Technology Guangzhou,Science and Technology on Reliability Physics and Application of Electronic Component Laboratory No.5 Electronics Research,Guangdong,China,510610)
Geng K. W.
(South China University of Technology, Guangzhou,School of Electronic and Information Engineering,Guangdong,China,510000)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2019  号: IPFA  ページ: 1-4  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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