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J-GLOBAL ID:202002240486538130   整理番号:20A0496250

高周波プラズマによる原子H不動態化によるBaSi_2の電気的性質の顕著な改善【JST・京大機械翻訳】

Significant improvement on electrical properties of BaSi2 due to atomic H passivation by radio-frequency plasma
著者 (6件):
Xu Zhihao
(University of Tsukuba,Institute of Applied physics, Graduate School of Pure and Applied Sciences,Tsukuba,Ibaraki,Japan,305-8573)
Gotoh Kazuhiro
(University of Tsukuba,Institute of Applied physics, Graduate School of Pure and Applied Sciences,Tsukuba,Ibaraki,Japan,305-8573)
Deng Tianguo
(University of Tsukuba,Institute of Applied physics, Graduate School of Pure and Applied Sciences,Tsukuba,Ibaraki,Japan,305-8573)
Toko Kaoru
(University of Tsukuba,Institute of Applied physics, Graduate School of Pure and Applied Sciences,Tsukuba,Ibaraki,Japan,305-8573)
Usami Noritaka
(University of Tsukuba,Institute of Applied physics, Graduate School of Pure and Applied Sciences,Tsukuba,Ibaraki,Japan,305-8573)
Suemasu Takashi
(University of Tsukuba,Institute of Applied physics, Graduate School of Pure and Applied Sciences,Tsukuba,Ibaraki,Japan,305-8573)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2019  号: PVSC  ページ: 0012-0014  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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