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J-GLOBAL ID:202002245190198545   整理番号:20A2709190

超高真空条件におけるMoS_2電界効果トランジスタデバイスへの塩素の分子ドーピングのその場研究【JST・京大機械翻訳】

In Situ Study of Molecular Doping of Chlorine on MoS2 Field Effect Transistor Device in Ultrahigh Vacuum Conditions
著者 (13件):
Trung Nguyen Tat
(Department of Chemistry, Graduate School of Science, Tohoku University, Japan)
Hossain Mohammad Ikram
(Department of Chemistry, Graduate School of Science, Tohoku University, Japan)
Alam Md Iftekharul
(Department of Chemistry, Graduate School of Science, Tohoku University, Japan)
Ando Atsushi
(Nanoelectronics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Ibaraki, Japan)
Kitakami Osamu
(Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM, Tagen), Tohoku University, Japan)
Kitakami Osamu
(Center for Spintronics Research Network, Tohoku University, Japan)
Kikuchi Nobuaki
(Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM, Tagen), Tohoku University, Japan)
Kikuchi Nobuaki
(Center for Spintronics Research Network, Tohoku University, Japan)
Takaoka Tsuyoshi
(Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM, Tagen), Tohoku University, Japan)
Sainoo Yasuyuki
(Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM, Tagen), Tohoku University, Japan)
Arafune Ryuichi
(International Center for Materials Nanoarchitectonics (WPI-MANA), National Institute for Materials Science (NIMS), Ibaraki, Japan)
Komeda Tadahiro
(Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM, Tagen), Tohoku University, Japan)
Komeda Tadahiro
(Center for Spintronics Research Network, Tohoku University, Japan)

資料名:
ACS Omega  (ACS Omega)

巻:号: 43  ページ: 28108-28115  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5044A  ISSN: 2470-1343  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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