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著者 (13件)：
資料名：
巻： 2019 号： IEDM ページ： 15.6.1-15.6.4 発行年： 2019年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：202002253222772264
整理番号：20A0910346
HfO_2ベースFEFETにおけるインプリントとその回復に及ぼす電荷捕獲の影響【JST・京大機械翻訳】
Impact of Charge trapping on Imprint and its Recovery in HfO2 based FeFET
Higashi Y.
(Kioxia Corporation assigned at imec)
,
Di Piazza L.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Suzuki M.
(Kioxia Corporation assigned at imec)
,
Linten D.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Van Houdt J.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Ronchi N.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Kaczer B.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Banerjee K.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
McMitchell S. R. C.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
O’Sullivan B. J.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Clima S.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Minj A.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
,
Celano U.
(imec,Leuven,Belgium,B-3001)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019 号： IEDM ページ： 15.6.1-15.6.4 発行年： 2019年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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