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J-GLOBAL ID:202002260421819561   整理番号:20A0487426

Siイオン注入による増強および空乏モードMOSFETから成るGaNベースモノリシックインバータ【JST・京大機械翻訳】

GaN-Based Monolithic Inverter Consisting of Enhancement- and Depletion-Mode MOSFETs by Si Ion Implantation
著者 (7件):
Okada Hiroshi
(Institute of Liberal Arts and Sciences, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Okada Hiroshi
(Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Miwa Kiyomasa
(Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Yokoyama Taichi
(Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Yamane Keisuke
(Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Wakahara Akihiro
(Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Sekiguchi Hiroto
(Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi, 441-8580, Japan)

資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)

巻: 217  号:ページ: e1900550  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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