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J-GLOBAL ID：202002262237098812 整理番号：20A0076321

Si単結晶の微細形態に及ぼす熱応力の影響の立体測定解析【JST・京大機械翻訳】

Stereometric Analysis of Effects of Heat Stressing on Micromorphology of Si Single Crystals

著者 (7件)：

Rashid Dallaev

(Faculty of Electrical Engineering and Communication, Physics Department, Brno University of Technology, Brno, Czech Republic)

Stach Sebastian

(Faculty of Computer Science and Materials Science, Institute of Informatics, Department of Biomedical Computer Systems, University of Silesia, Sosnowiec, Poland)

Talu Stefan

(The Directorate of Research, Development and Innovation Management (DMCDI), The Technical University of Cluj-Napoca, Cluj-Napoca, Cluj county, Romania)

Sobola Dinara

(Faculty of Electrical Engineering and Communication, Physics Department, Brno University of Technology, Brno, Czech Republic)

Mendez-Albores Alia

(Centro de Quimica-ICUAP Benemerita Universidad Autonoma de Puebla, Puebla, Mexico)

Cordova Gabriel Trejo

(Center of Research and Technological Development in Electrochemistry (CIDETEQ), Queretaro, Mexico)

Grmela Lubomir

(Faculty of Electrical Engineering and Communication, Physics Department, Brno University of Technology, Brno, Czech Republic)

資料名：

Silicon (Silicon)

巻： 11 号： 6 ページ： 2945-2959 発行年： 2019年
JST資料番号： W4947A ISSN： 1876-9918 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

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