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J-GLOBAL ID：202002262990928955 整理番号：20A2529165

300°Cおよび500°Cにおける非晶質けい素オキシカーバイドの二重ビーム照射安定性【JST・京大機械翻訳】

Dual-Beam Irradiation Stability of Amorphous Silicon Oxycarbide at 300°C and 500°C

著者 (9件)：

Su Qing

(Department of Mechanical and Materials Engineering, University of Nebraska-Lincoln, Lincoln, NE, USA)

Greaves Graeme

(School of Computing and Engineering, University of Huddersfield, Huddersfield, UK)

Donnelly Stephen E.

(School of Computing and Engineering, University of Huddersfield, Huddersfield, UK)

Mizuguchi Shoki

(Department of Materials Science and Engineering, Kyushu Institute of Technology, Tobata, Kitakyushu, Fukuoka, Japan)

Ishimaru Manabu

(Department of Materials Science and Engineering, Kyushu Institute of Technology, Tobata, Kitakyushu, Fukuoka, Japan)

Nastasi Michael

(Department of Mechanical and Materials Engineering, University of Nebraska-Lincoln, Lincoln, NE, USA)

Nastasi Michael

(Nebraska Center for Energy Sciences Research, University of Nebraska-Lincoln, Lincoln, NE, USA)

Nastasi Michael

(Nebraska Center for Materials and Nanoscience, University of Nebraska-Lincoln, Lincoln, NE, USA)

Nastasi Michael

(Department of Nuclear Engineering, Texas A&M University, College Station, TX, USA)

資料名：

JOM (JOM)

巻： 72 号： 11 ページ： 4002-4007 発行年： 2020年
JST資料番号： C0321A ISSN： 1047-4838 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

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