文献
J-GLOBAL ID:202002266189744541
整理番号:20A0496794
RPD法により作製したITO/a-Si界面の評価【JST・京大機械翻訳】
Evaluation of ITO/a-Si Interface Fabricated by RPD Technique
著者 (8件):
Nishihara Tappei
(Meiji University,Kawasaki, Kanagawa,Japan,214-8571)
,
Kamioka Takefumi
(Meiji University,Kawasaki, Kanagawa,Japan,214-8571)
,
Kanai Hiroki
(Meiji University,Kawasaki, Kanagawa,Japan,214-8571)
,
Ohshita Yoshio
(Toyota Technological Institute,Nagoya, Aichi,Japan,468-8511)
,
Matsumura Hideki
(Japan Institute of Science and Technology,Noumi, Ishikawa,Japan,923-1211)
,
Yasuno Satoshi
(JASRI,Sayo-gun, Hyogo,Japan,679-5198)
,
Hirosawa Ichiro
(JASRI,Sayo-gun, Hyogo,Japan,679-5198)
,
Ogura Atsushi
(Meiji University,Kawasaki, Kanagawa,Japan,214-8571)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
PVSC
ページ:
2702-2704
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)