文献
J-GLOBAL ID:202002267232972434
整理番号:20A0023766
触媒反応支援CVD法におけるZnO膜への窒素ドーピング
Nitrogen doping to ZnO films in a catalytic reaction assisted chemical vapor deposition
著者 (6件):
伊庭竜太
(長岡技科大)
,
神林広樹
(長岡技科大)
,
安達雄大
(長岡技科大)
,
大石耕一郎
(長岡工高専)
,
片桐裕則
(長岡工高専)
,
安井寛治
(長岡技科大)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
119
号:
271(CPM2019 44-51)
ページ:
15-19
発行年:
2019年10月31日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)