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J-GLOBAL ID:202002268122888895   整理番号:20A2365669

酸素分圧制御による室温で成長させたFe_2O_3ドープNiOエピタキシャル薄膜の結晶構造の修正【JST・京大機械翻訳】

Modifying the crystal structures of Fe2O3-doped NiO epitaxial thin films grown at room temperature by controlling the oxygen partial pressure
著者 (18件):
Seo Okkyun
(Synchrotron X-ray Group, Research Center for Advanced Measurement and Characterization, National Institute for Materials Science (NIMS), Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Seo Okkyun
(Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Tayal Akhil
(Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Kim Jaemyung
(Synchrotron X-ray Group, Research Center for Advanced Measurement and Characterization, National Institute for Materials Science (NIMS), Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Kim Jaemyung
(Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Song Chulho
(Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Katsuya Yoshio
(Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Sakata Osami
(Synchrotron X-ray Group, Research Center for Advanced Measurement and Characterization, National Institute for Materials Science (NIMS), Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Sakata Osami
(Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan)
Sakata Osami
(Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan)
Sakata Osami
(Center for Synchrotron Radiation Research, Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI), 1-1-1 Koto, Sayo, Hyogo 679-5198, Japan)
Tang Jiayi
(Graduate School of Engineering, University of Hyogo, 2167, Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan)
Lee Nodo
(Materials & Devices Advanced Research Institute, LG Electronics, 10, Magokjungang-ro, Gangseo-gu, Seoul 07796, Republic of Korea)
Kim Yong Tae
(Department of Chemical Engineering & Biotechnology, Korea Polytechnic University, 237 Sangidaehak-ro, Siheung-si, Republic of Korea)
Ikeya Yuki
(Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan)
Takano Shiori
(Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan)
Matsuda Akifumi
(Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan)
Yoshimoto Mamoru
(Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 533  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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