文献
J-GLOBAL ID:202002275346149378
整理番号:20A2763548
GaN-HEMTの電気特性に及ぼす電界板誘電体の膜応力の影響【JST・京大機械翻訳】
Impact of Film Stress of Field-Plate Dielectric on Electric Characteristics of GaN-HEMTs
著者 (5件):
Ando Yuji
(Department of Electronics, Nagoya University, Nagoya, Japan)
,
Takahashi Hidemasa
(Department of Electronics, Nagoya University, Nagoya, Japan)
,
Ma Qiang
(Graduate School of Engineering, Tsukuri College, Nagoya Institute of Technology, Nagoya, Japan)
,
Wakejima Akio
(Graduate School of Engineering, Tsukuri College, Nagoya Institute of Technology, Nagoya, Japan)
,
Suda Jun
(Department of Electronics, Nagoya University, Nagoya, Japan)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
67
号:
12
ページ:
5421-5426
発行年:
2020年
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)