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J-GLOBAL ID：202002277759568954 整理番号：20A0176184

イリジウム熱線触媒上に生成したHラジカルを用いた酸素添加量とフォトレジスト除去速度の関係

Relationship between Oxygen Additive Amount and Photoresist Removal Rate Using H Radicals Generated on an Iridium Hot-Wire Catalyst

著者 (7件)：

Yamamoto Masashi

(Department of Electrical and Computer Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College)

Shiroi Tomohiro

(Department of Electrical and Computer Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College)

Shikama Tomokazu

(Department of Electrical and Computer Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College)

Nagaoka Shiro

(Department of Electronic Systems Engineering, National Institute of Technology, Kagawa College)

Umemoto Hironobu

(Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University)

Umemoto Hironobu

(Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University)

Horibe Hideo

(Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University)

資料名：

Journal of Photopolymer Science and Technology (Web) (Journal of Photopolymer Science and Technology (Web))

巻： 32 号： 4 ページ： 609-614(J-STAGE) 発行年： 2019年
JST資料番号： U2132A ISSN： 1349-6336 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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