文献
J-GLOBAL ID:202002290728107708
整理番号:20A0496892
強化トンネル接合性能と熱安定性のためのデルタドーピング【JST・京大機械翻訳】
Delta-doping for enhanced tunnel junction performance and thermal stability
著者 (7件):
Sun Yukun
(Yale University,New Haven,CT,06520)
,
Fan Shizhao
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
,
Jung Daehwan
(Korea Institute of Science and Technology,Seoul,South Korea)
,
Hool Ryan
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
,
Li Brian
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
,
Vaisman Michelle
(Yale University,New Haven,CT,06520)
,
Lee Minjoo Larry
(University of Illinois,Urbana-Champaign,IL,61801)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
PVSC
ページ:
3211-3214
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)