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文献
J-GLOBAL ID:202002291857159506   整理番号:20A1358564

化学増幅レジストにおけるレジスト加熱効果の機構【JST・京大機械翻訳】

Mechanism of resist heating effect in chemically amplified resist
著者 (6件):
Ikari Y.
(Osaka Univ. (Japan))
Okamoto K.
(Osaka Univ. (Japan))
Maeda N.
(Osaka Univ. (Japan))
Konda A.
(Osaka Univ. (Japan))
Kozawa T.
(Osaka Univ. (Japan))
Tamura T.
(NuFlare Technology, Inc. (Japan))

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 11326  ページ: 113260G-6  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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