文献
J-GLOBAL ID:202002291857159506
整理番号:20A1358564
化学増幅レジストにおけるレジスト加熱効果の機構【JST・京大機械翻訳】
Mechanism of resist heating effect in chemically amplified resist
著者 (6件):
Ikari Y.
(Osaka Univ. (Japan))
,
Okamoto K.
(Osaka Univ. (Japan))
,
Maeda N.
(Osaka Univ. (Japan))
,
Konda A.
(Osaka Univ. (Japan))
,
Kozawa T.
(Osaka Univ. (Japan))
,
Tamura T.
(NuFlare Technology, Inc. (Japan))
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
11326
ページ:
113260G-6
発行年:
2020年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)