文献
J-GLOBAL ID:202102230191886787
整理番号:21A0150067
O_2/BCL_3ディジタルエッチ後の窒化ガリウム膜のXPS分析【JST・京大機械翻訳】
XPS Analysis of Gallium Nitride Film After O2/BCL3 Digital Etch
著者 (9件):
Tang Jiale
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
,
Hu Yongjie
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
,
Zhang Yudong
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
,
Gu Zhiqiang
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Che Dongchen
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Hu Dongdong
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Chen Lu
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Xu Kaidong
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Zhuang Shiwei
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
CSTIC
ページ:
1-4
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)