Murakami Masanori

ムラカミマサノリ | Murakami Masanori

Affiliation and department：
Job title： Professor

Research field (6)： Composite materials and interfaces , Inorganic materials , Metallic materials , Electric/electronic material engineering , Thin-film surfaces and interfaces , Nanomaterials

Research keywords (1)： Physical Properties of Thin Films , Interfacial Engineering Electrode Materials for Compound Semiconductor Devices , Wiring Materials for Semiconductor Devices , Wiring Materials for Semiconductor Devices

Research theme for competitive and other funds (23)：

2006 - 2007 Developments of new complex materials using mime and interface diffusion of the supersaturated alloy elements in thin films
2006 - 2006 「自然順応ナノ材料の創成」高性能LED用の代替透明電極材料の開発
2005 - 2005 「薄膜・微粒子技術の産業化」高性能LED創成に向けた要素技術の開発
2003 - 2005 Ohmic contact materials for wide-gap semiconductors : Fabrication and STP analysis.
2001 - 2005 次世代Siデバイス用超微細Cu配線材料に関する主影響解明ならびに材料学的本質的解決手法の確立にかかわる研究

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Papers (265)：

村上正紀. 海外留学の勧め. 草津市立教育研究所研究所だより. 2015. 93
村上正紀. 学生時代に届かなかった1通のAir Mailが恵んでくれた我が研究人生!. 応用物理. 2015. 84. 2. 102-108
K. Ito, K. Hamasaka, K. Kohama, S. Shirai, M. Murakami. Low-Temperature Synthesis of High-Adhesion Cu(Mg) Alloy Films on Glass Substrates. Journal of Electronic Materials. 2014. 43. 7. 2540-2547
村上正紀. 科学・技術立国に不可欠な人材育成について-日米を比較して考える-. 学術の動向. 2014. 19. 2. 26-34-34
早稲田嘉夫, 黒田光太郎, 村上正紀, 細野秀雄. 総合討論「材料工学が目指す人材とは」. 学術の動向. 2014. 19. 2. 40-47-47

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MISC (66)：

ITO K., KOHAMA K., HAMASAKA K., SHIRAI Y., MURAKAMI M. Low-temperature synthesis of high-adhesion Cu films on glass substrates. 2013. 93. 346-347
ITO Kazuhiro, NAKAGAWA Wataru, ONISHI Takashi, SHIRAI Yasuharu, MURAKAMI Masanori. Resistance reduction of Cu alloy interconnects in the contact with ITO transparent conductive films. Journal of architecture and building science. 2013. 92. 44-45
小濱和之, 松本卓也, 伊藤和博, 白井泰治, 村上正紀. スパッタCu膜の室温粒成長に及ぼすCu膜配向性とバリアの影響. 日本金属学会講演概要(CD-ROM). 2011. 149th. ROMBUNNO.POSUTASESSHON,159
中川渉, 伊藤和博, 大西隆, 白井泰治, 村上正紀. Cu合金/ITO界面接触抵抗の低減. 日本金属学会講演概要(CD-ROM). 2011. 149th. ROMBUNNO.POSUTASESSHON,155
小濱和之, 浜坂啓司, 薗林豊, 伊藤和博, 白井泰治, 村上正紀. Ti基自己形成バリアにおけるバリア性の雰囲気依存性. 日本金属学会講演概要. 2011. 148th. 162

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Patents (45)：

Josephson devices of improved thermal cyclability and method
Thermally stable ohmic contact for gallium-arsenide
Thermally stable low resistance contact
Method for forming distributed barrier compound semiconductor contacts
オーミック電極およびその形成方法

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Books (19)：

ナノ蒸着オーム性電極材の形成技術
「ナノメタルの最新技術と応用技術」シーエムシー社 2003
半導体ー金属電極間の傾斜材料
「傾斜機能材料の開発と応用」リアライズ社 2003
Development of Refractory Ohmic Contact Materials for Gallium Arsenide CompoundSemiconductors
Sci.Technol.Adv.Mater 2002
Ohmic Contacts for Compound Semiconductors
Cri, Rev.Sol.Stat.Mater.Sci. 1998
Cu配線用スパッタ蒸着バリア材
「Cu配線技術の最新の展開」リアライズ社 1998

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Education (3)：

- 1971 Kyoto University "Graduate School, Division of Engineering" Metallurgy Major
- 1968 Kyoto University "Graduate School, Division of Engineering" Metallurgy Major
- 1966 Kyoto University Faculty of Engineering Department of Metallurgy

Professional career (1)：

Doctor of Engineering (Kyoto University)

Work history (8)：

2022/04 - 現在 Ritsumeikan University Ritsumeikan-Global Innovation Research Organization
2019/04 - 2022/03 The Ritsumeikan Trust , Assistant Trustee
2015 - 2018 Ritsumeikan University
2007 - 2014 学校法人立命館副総長・京都大学名誉教授
1990 - 2007 Kyoto University Graduate School of Engineering, Deprtment of Materical Science and Engineering

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Committee career (53)：

京都環境ナノクラスター本部事業推進協議会委員
ネオマテリアル創成研究会副理事長
京都知的クラスター本部事業推進協議会委員
財団法人生産開発科学研究所評議委員
財団法人京都高度技術研究所研究顧問

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Awards (16)：

2017/04 - 日本金属学会名誉員
2016/06 - (公益財団法人)本多記念賞
2011/03 - 日本金属学会賞
2009/04 - JAPANESE GOVERNMENT Medal with Purple Ribbon
2006/09 - 功労賞(日本金属学会)

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※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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