Kakehi Yoshiharu

カケヒヨシハル | Kakehi Yoshiharu

Affiliation and department：
Job title： Researcher

Research field (5)： Inorganic materials , Thin-film surfaces and interfaces , Crystal engineering , Applied materials , Electronic devices and equipment

Research keywords (8)：透明導電性酸化物 , レーザーアブレーション , スパッタリング , 薄膜 , Transparent Conducting Oxide , Pulsed Laser Ablation , Sputtering , Thin Film

Research theme for competitive and other funds (6)：

2008 - 2009 PLD法によるCuScO2薄膜の作製
2008 - 2008 Cr-N薄膜を用いた極低温汎用温度計の開発
2002 - 2006 酸化物系半導体薄膜の作製技術の開発
2002 - -
1998 - 2000 LiNbO₃ Thin Film Prepared by Pulsed Laser Deposition

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MISC (41)：

ｍore...

Works (2)：

高温動作型圧力センサの開発
2004 -
ECRプラズマ照射による有機EL素子用ITO薄膜の表面改質
2002 -

Professional career (2)：

Bachelor of Engineering (Osaka Prefecture University)
博士(工学) (大阪府立大学)

Committee career (1)：

1996 - 2005 低温工学協会関西支部役員(1996-2005,2008~)

Association Membership(s) (6)：

日本セラミックス協会 , 低温工学協会 , 応用物理学会 , The Ceramics Society of Japan , The Japan Society of Applied Physics , Cryogenic Association of Japan

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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