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J-GLOBAL ID:200901037580560287
Update date: Jul. 30, 2008
Kurosawa Kou
クロサワ コウ | Kurosawa Kou
Affiliation and department:
Japan Science and Technology Agency
About Japan Science and Technology Agency
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Research field (3):
Electronic devices and equipment
, Electric/electronic material engineering
, Semiconductors, optical and atomic physics
Research keywords (6):
表面光反応
, 石英ガラス
, 薄膜
, Surface photo chemistry
, silica glass
, Thin film
Research theme for competitive and other funds (10):
光ナノ加工
薄膜コーティング技術
超短パルスレーザーを用いた超微細加工
石英ガラスの光デバイス応用
真空紫外光を用いた薄膜製作
Nano-processing with light
Thin film coating technology
Nano-scale processing with ultra-short pulse lasers
Photonic applications of silica glass
Thin film preparation with vacuum ultraviolet light
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MISC (2):
Identification of defects associated with second-ovder optical nonlinearits in thermally poled high-purits silica glasses(共著). Journal of Applied Physics. 2001. 89. 9. 4707-4713
GeO
2
and SiO
2
thin film preparation with CVD using ultraviolet excimer lamps. Journal de Physique. 2001. 11. Pr3. 739
Patents (3):
半導体製造装置
膜の形成方法及びその方法を実施するためのCVD装置
真空紫外光を用いた常圧CVD装置の製造方法
Books (2):
レーザー基礎の基礎
オプトロニクス社 1996
Understanding Fundamental Lasers
Optronics Co. 1996
Works (6):
真空紫外光によるプラスチックの表面処理
2001 -
Surface modification of plastics with vacuum ultraviolet radiation
2001 -
フェムト秒レーザーによる材料加工
2000 -
Material processing with fs Laser pulses
2000 -
真空紫外光CVDによるSiO<sub>2</sub>薄膜製作
1998 -
more...
Professional career (1):
(BLANK) (Osaka Prefecture University)
Committee career (1):
2001 - レーザー学会 評議員
Awards (1):
1985 - レーザー学会業績賞
Association Membership(s) (4):
米国材料学会
, 米国光学会
, レーザー学会
, 応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in
researchmap
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For details, see here
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