Hoshikawa Keigo

ホシカワケイゴ | Hoshikawa Keigo

MISC (1)：

Dynamic behavior of oxygen, heavily doped other impurities and grown-in defect in the Czochralski Si crystal growth: K.Hoshikawa,X.Huang, S.Sakai,S.Oishi,T.Taishi and K.Yamahara, The Fifth Symposium on Atomic-Scale Surface and Interface Dinamics, Tokyo・・・

Books (3)：

Education (3)：

Professional career (1)：

Work history (3)：

Committee career (2)：

Awards (4)：

Association Membership(s) (7)：

日本教育工学会 , 日本産業技術教育学会 , 米国電気化学会(ECS) , 日本結晶成長学会 , 日本金属学会 , 応用物理学会 , 電子情報通信学会

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