Rchr
J-GLOBAL ID：200901074234127570
Update date: Aug. 28, 2024
Inoue Shozo
イノウエ シヨウゾウ | Inoue Shozo
Affiliation and department：
Research field (1)：
Material fabrication and microstructure control
Research keywords (2)：
sputtering
, Thin Film
Research theme for competitive and other funds (15)：
- 2019 - 2023 相変態を利用した2次元応力分布記録メディアとしてのステンレス薄膜
- 2015 - 2017 発熱特性を制御できる金属-酸化物多層自己伝播発熱材料の開発
- 2011 - 2013 MEMS構造材料への展開を目指したバルク金属ガラス薄膜の材料探索
- 2008 - 2010 高速応答形状記憶合金マイクロアクチュエータ材料の開発とそのマイクロ加工技術の確立
- 2002 - 2004 強磁性形状記憶合金薄膜による磁場動作型マイクロアクチュエーターの開発
- 2001 - 2002 固体炭素源を用いた2源スパッタリング法による硬質炭化物薄膜の高速成長
- 2000 - 2001 非平衡マグネトロンスパッタリング法による強磁性形状記憶合金薄膜の作製
- 1998 - 1999 反応性スパッタリング法による超硬質多元系窒化物薄膜の高精度組成コントロール
- 1997 - 1998 磁場印加反応性スパッタリング法による高品位硬質窒化物薄膜の高速成長
- 1996 - 1997 Evaluation of Pinhole Defects and Corrosion Resistance of TiN-coated Stainless Steels
- 1992 - 1993 金属・窒化物系傾斜機能薄膜による材料表面改質に関する研究
- 1990 - 1991 超硬質窒化物薄膜による材料表面改質に関する研究
- 1990 - 反応性スパッタリング法による窒化物薄膜作製時のグロー放電発光の分光分析
- Deposition and Characterization of Shape Memory Alloy Films
- Preparation and Characterization of Reactive Sputtered Nitride Films
Show all
Papers (194)：
-
Shozo Inoue, Naoto Morikawa, Akira Heya, Takahiro Namazu. Deposition of W-C films by dual source dc magnetron sputtering. Proceedings of 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE2022, Nara). 2022. C132
-
森川直人, 分銅亮介, 部家彰, 生津資大, 井上尚三. 二源スパッタリング法によるW-C薄膜の作製. 2022年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 2022. 221-222
-
朝田昂大, 大路利菜, 井上尚三. SUS304ステンレス鋼スパッタ薄膜のCu薄膜上での成長相と成長形態. 2022年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 2022. 219-220
-
S. Kammachi, Y. Goshima, N. Goami, N. Yamashita, S. Kakinuma, K. Nishikata, N. Naka, S. Inoue, T. Namazu. Cathodoluminescence Spectroscopic Stress Analysis for Silicon Oxide Film and Its Damage Evaluation. Materials. 2020. 13. 4490-8 pages
-
Shozo Inoue, Yu Fujiwara, Najami Zahira, Naoki Umada. Effect of deposition condition on the crystal phase of 18-8 stainless steel films prepared by dc magnetron sputtering. Proceedings of the 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2019). 2019. 188-190
ｍore...
MISC (76)：
-
永井晋平, 村上大志, 多田あずみ, 井上尚三. スパッタTi薄膜の成長形態におよぼす成膜条件の影響. 2024年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集. 2024. 672-673
-
岡田響, 森川直人, 部家彰, 井上尚三. 二源スパッタリング法によるTi-C薄膜の作製. 2023年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 2023. 668-669
-
井上達裕, 朝田昂大, 井上尚三. Cuバッファ層上でのγ相SUS304ステンレス鋼スパッタ薄膜の成長形態. 2023年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 2023. 664-665
-
FUJII Tatsuya, INA Ginnosuke, INOUE Shozo, NAMAZU Takahiro. OS1420-430 In-Situ SEM Tensile Testing of Sacrificial Oxidized Si Nanowires Using Electrostatic Actuated MEMS Device. 2015. 2015. "OS1420-430-1"-"OS1420-430-2"
-
KOZEKI Takahiro, FUJII Tatsuya, INOUE Shozo, NAMAZU Takahiro. OS1419-420 Fabrication of Si nanowires using focused ion beam masking technique and their mechanical property evaluation. 2015. 2015. "OS1419-420-1"-"OS1419-420-2"
ｍore...
Education (3)：
- 1984 - 1987 Osaka University
- 1982 - 1984 Osaka University
- 1978 - 1982 Osaka University School of Engineering
Professional career (1)：
- (BLANK) (Osaka University)
Work history (6)：
Committee career (3)：
- 2020 - 現在 精密工学会関西支部 商議員
- 2012 - 現在 精密工学会 超精密加工専門委員会幹事
- 2009 - 現在 精密工学会 校閲協力委員
Association Membership(s) (4)：
精密工学会
, American Vacuum Society
, 応用物理学会
, 日本金属学会
