Takenaka Kosuke

タケナカコウスケ | Takenaka Kosuke

Affiliation and department：
Job title： Assistant Professor
Homepage URL (1)： https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060432423/

Research field (2)： Material fabrication and microstructure control , Basic plasma science

Research keywords (12)：粒子改質 , 高周波プラズマ , 液中プラズマ , プラズマ処理・レーザー加工 , プラズマ反応機構 , 有機系材料 , 有機 , 機能性表面 , 超低電位プラズマ , 機能性材料 , 表面改質・加工 , 表面処理

Research theme for competitive and other funds (15)：

2021 - 2024 Development of 3D nanostructured zinc oxide thin film formation technology with plasma assisted process using microdroplets
2022 - 2023 金属・プラスチック異材接合に向けた幅広大気圧非平衡高周波プラズマジェット生成技術の開発
2020 - 2021 ミストプラズマを用いた3次元ナノ構造を持つ酸化亜鉛薄膜形成技術の開発
2017 - 2020 物理・化学的機能性付与による高機能有機材料表面形成技術の開発
2012 - 2017 Development of novel plasma sources for plasma medicine through advanced spatio-temporal control of atmospheric-pressure discharge

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Papers (148)：

Kosuke Takenaka, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Akiya Jinda, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara. Influence of pre-treatment with non-thermal atmospheric pressure plasma on bond strength of TP340 titanium-PEEK direct bonding. The International Journal of Advanced Manufacturing Technology. 2024. 134. 1637-1644
Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Taichi Sagano, Keisuke Ide, Susumu Toko, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara. Hydrogen-included plasma-assisted reactive sputtering for conductivity control of ultra-wide bandgap amorphous gallium oxide. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 4. 04SP65/1-04SP65/5
Susumu Toko, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara. Improving the efficiency of CO2 methanation using a combination of plasma and molecular sieves. Results in Surfaces and Interfaces. 2024. 100204/1-100204/7
Kosuke Takenaka, Shota Nunomura, Yuji Hayashi, Hibiki Komatsu, Susumu Toko, Hitoshi Tampo, Yuichi Setsuhara. Stability and gap states of amorphous In-Ga-Zn-Ox thin film transistors: Impact of sputtering configuration and post-annealing on device performance. Thin Solid Films. 2024. 790. 140203/1-140203/8
Susumu TOKO, Takamasa OKUMURA, Kunihiro KAMATAKI, Kosuke TAKENAKA, Kazunori KOGA, Masaharu SHIRATANI, Yuichi SETSUHARA. Fundamental Study of Carbon Dioxide Reduction Reaction with Plasma Catalysis. Journal of Smart Processing. 2024. 13. 1. 31-36

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MISC (458)：

永田健人、太田和哉、竹中弘祐、節原裕一、太田貴之. 大電力パルスマグネトロンスパッタを用いた結晶性IGZOの成膜. 2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会, 朱鷺メッセ他2会場&ハイブリッド開催. 2024
都甲将、奥村賢直、鎌滝晋礼、竹中弘祐、古閑一憲、白谷正治、節原裕一. プラズマ支援メタネーションにおけるモレキュラーシーブの役割. 2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会, 朱鷺メッセ他2会場&ハイブリッド開催. 2024
都甲将, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一. プラズマを用いたCO2のメタン化におけるモレキュラーシーブの活用. 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 東京都市大学世田谷キャンパス&オンライン. 2024
竹中弘祐、上田拓海、都甲将、江部明憲、節原裕一. プラズマ支援反応性パルスDCスパッタリングを用いたa-IGZO薄膜の特性制御. 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 東京都市大学世田谷キャンパス&オンライン. 2024
Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Kazuya Ota, Susumu Toko, Keisuke Ide, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara. Formation of amorphous gallium oxide thin film transistors using plasma-assisted reactive processes. 16th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2024) / 17th International Conference on Plasma Nano Technology & Science(IC-PLANTS 2024), 13th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-13), Nagoya University, Nagoya, Japan. 2024

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Patents (2)：

プラズマ発生装置及びこれを用いたプラズマ生成方法
樹脂材と金属材との接合体およびその製造方法

Books (2)：

Plasma Medical Science
Elsevier 2018 ISBN:9780128150047
Designing of Interfacial Structures in Advanced Materials and their Joints ed. By M. Naka
Trans Tech Publications 2007 ISBN:9783908451334

Lectures and oral presentations (81)：

大気圧プラズマジェットによる異種基板の直接接合
(2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会 2024)
Experimental study on the effect of plasma-catalyst interaction on methanation reaction
(97th IUVSTA Workshop on plasma-assisted conversion of gases for a sustainable future 2023)
Plasma-assisted Mist CVD for Formation of 3D Nanostructured Zinc Oxide Thin Films
(Joint Conference of Global Plasma Forum and 24th Workshop on Fine Particle Plasmas (WFPP24) 2023)
Reactivity-Control Plasma Processes for Low-Temperature Formation of High-Quality Oxide Thin-Film Transistors
(International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS,(THERMEC‘2023) 2023)
プラズマ触媒作用を用いたCO2メタネーション
(2022年度第3回表面改質技術研究委員会 2023)

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Education (3)：

2002 - 2005 Kyushu University Graduate School of Information Science and Electrical Engineering Department of Electronic Device Engineering
2000 - 2002 Kyushu University Graduate School of Information Science and Electrical Engineering Department of Electronic Device Engineering
1996 - 2000 Doshisha University

Professional career (1)：

博士(工学) (九州大学)

Work history (3)：

2019/08 - 現在 Osaka University Joining and Welding Research Institute
2008/04 - 2019/08 Osaka University Joining and Welding Research Institute
2005/04 - 2008/03 Osaka University Joining and Welding Research Institute

Committee career (5)：

2021/01 - 現在スマートプロセス学会編集委員会委員
2022/04 - 2024/03 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹事
2018/04 - 2022/03 応用物理学会プログラム委員(大分類8プラズマエレクトロニクス)
2016/04 - 2018/03 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹事
2011 - スマートプロセス学会評議員

Awards (14)：

2022/11 - 応用物理学会第20回(2022年秋季) 応用物理学会 Poster Award
2021/04 - (一社)スマートプロセス学会 Best Review賞
2021/03 - Organizing Committee of ISPlasma2021/IC-PLANTS2021 The Best Short Presentation Awards
2019/11 - ICMaSS2019 ICMaSS2019/ iLIM-s Outstanding Presentation Award
2017/03 - ISPlasma2017/IC-PLANTS2017 Best presentation award

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Association Membership(s) (4)：

SMART PROCESSING SOCIETY FOR MATERIALS, ENVIRONMENT & ENERGY , JAPAN WELDING SOCIETY , THE INSTITUTE OF ELECTRICAL ENGINEERS OF JAPAN , THE JAPAN SOCIETY OF APPLIED PHYSICS

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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