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J-GLOBAL ID:201401000598455919   Update date: Aug. 17, 2024

Ikenoue Takumi

イケノウエ タクミ | Ikenoue Takumi
Affiliation and department:
Research field  (1): Electric/electronic material engineering
Research theme for competitive and other funds  (18):
  • 2023 - 2025 超濃厚水溶液による白金族金属の溶解:低エネルギー消費型リサイクルプロセスの構築
  • 2022 - 2025 大気開放下での非水電解液を用いたアルミニウム電気めっき技術の開発
  • 2022 - 2024 光電変換効率の増強を示すハライド・ペロブスカイトの三次元フォトニック結晶の作製
  • 2020 - 2023 Development of power device with rock salt structure wide bandgap semiconductor grown by mist CVD method
  • 2022 - 2023 Realization of oxide power device using Li-doped NiMgO single crystal grown by mist CVD method
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Papers (38):
  • Takashi Kubo, Tatsuo Yamamoto, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato. Low-cost ionic liquid electrolytes based on low-molecular-weight primary and secondary alkylamine hydrochlorides for rechargeable Al batteries. Journal of Energy Storage. 2024. 99. 113332-113332
  • Hisato Nishii, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato. Optimal Oxidation Conditions Using Water Vapor for the Topotactic Formation of High-Quality Vanadium Dioxide Films from Vanadium Sesquioxide Epitaxial Films. Crystal Growth & Design. 2024
  • Hisato Nishii, Shintarou Iida, Akira Yamasaki, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Toshiya Doi, Tetsuji Hirato. Fabrication of epitaxial V2O3 thin films on Al2O3 substrates via mist chemical vapor deposition. Journal of Crystal Growth. 2024. 626. 127484-127484
  • Shota Higashino, Yoshikazu Takeuchi, Masao Miyake, Takuma Sakai, Takumi Ikenoue, Masakazu Tane, Tetsuji Hirato. Toward Tungsten Electrodeposition at Moderate Temperatures Below 100 °C Using Chloroaluminate Ionic Liquids. Journal of The Electrochemical Society. 2023. 170. 5. 052501-052501
  • Masao Miyake, Yuya Tanaka, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato. Fabrication of micron-sized three-dimensional porous Al from an Al-Zn monotectoid alloy via selective etching and Al passivation. Journal of Materials Science. 2023. 58. 19. 8169-8177
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MISC (119):
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Patents (1):
Books (2):
  • スマートウィンドウ(調光窓)の開発動向 (エレクトロニクスシリーズ)
    シーエムシー出版 2023 ISBN:4781317464
  • PEDOTの材料物性とデバイス応用
    サイエンス&テクノロジー株式会社 2012
Lectures and oral presentations  (5):
  • Growth and characterization of p-type oxide semiconductor thin films by using mist CVD method
    (20th International Union of Materials Research Societies-International Conference in Asia 2019)
  • Hop Step Jump! 高専の先に広がる未来
    (文部科学省 情報ひろば特別展示・イベント 2018)
  • 液摘(ミスト)を用いた成膜技術とデバイス応用
    (第4回 製鋼部会 産学交流会 2017)
  • ミストCVD法を用いた光吸収層用酸化物・硫化物の成長
    (文部科学省 ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細加工プラットフォーム 第2回広島大学・山口大学・香川大学・FAIS 合同シンポジウム 2016)
  • ミスト CVD 法による銅系材料の成膜
    (ナノテク研シンポジウム2015 2015)
Awards (3):
  • 2018/10 - 電子材料シンポジウム EMS賞
  • 2012/12 - 電気学会 平成24年 電気学会 優秀論文発表A賞
  • 2011/07 - 京都大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー VBL若手研究助成 学生賞
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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