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J-GLOBAL ID:201501048579490231   Update date: Oct. 31, 2021

Nishimura Takashi

ニシムラ タカシ | Nishimura Takashi
Affiliation and department:
Job title: 准教授
Research field  (2): Applied materials ,  Thin-film surfaces and interfaces
Research keywords  (2): 荷電粒子ビーム工学 ,  表面科学
Papers (8):
MISC (7):
  • 西村高志, 近藤稜真. 柔軟な電子工作ツールを用いた自動制御技術の実践的教育. 計測自動学会中部支部教育工学論文集. 2020. VOL.43. 58-60
  • 近藤稜真, 西村高志. 柔軟な電子工作ツールを用いた自動制御技術の実践的教育. 計測自動制御学会中部支部 第168回教育工学研究会. 2020
  • 西村高志. STEM教育のための柔軟な電子工作ツールの開発. 計測自動学会中部支部教育工学論文集. 2019. Vol.42. 55-57
  • 近藤稜真, 豊田涼介, 西村高志. STEM教育のための柔軟な電子工作ツールの開発. 計測自動制御学会中部支部 第166回教育工学研究会. 2019
  • 西村高志. 紫外光LEDのブロッコリーへの照射効果. 計測自動学会中部支部教育工学論文集. 2017. Vol.40. 14-16
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Lectures and oral presentations  (24):
  • 金属蒸着シリコン細路部の局所溶融による突起構造の液相エピタキシャル結晶成長
    (第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021)
  • 応力印加場での局所表面融液エピタキシャル結晶成長による突起構造形成過程の熱画像解析
    (第67回応用物理学会春季学術講演会 2020)
  • 局所応力印加下での金属蒸着表面液相エピタキシャル成長による突起構造形成 (3Fa12)
    (2019年日本表面真空学会学術講演会 2019)
  • 局所応力印加下での表面液相エピタキシャル成長で形成した表面突起構造の断面構造解析
    (第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018)
  • Fabrication of silicon bumps on a silicon wafer under external tensile stress at high temperatures and metal caps on the bumps
    (2017)
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Education (3):
  • 2008 - 2011 Japan Advanced Institute of Science and Technology
  • 2006 - 2008 Japan Advanced Institute of Science and Technology
  • 2003 - 2006 Yamaguchi University Department of Electrical and Electronic Engineering
Professional career (1):
  • 博士(材料科学)
Work history (4):
  • 2019 - 現在 Suzuka National College of Technology Department of Electrical and Electronic Engineering
  • 2017 - 2019 Suzuka National College of Technology Department of Electrical and Electronic Engineering
  • 2015 - 2017 Suzuka National College of Technology Department of Electrical and Electronic Engineering
  • 2011 - 2015 株式会社エリオニクス 開発技術部
Association Membership(s) (1):
THE JAPAN SOCIETY OF APPLIED PHYSICS
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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