Rchr
J-GLOBAL ID:201901006732883693   Update date: Dec. 09, 2024

Tanaka Hajime

タナカ ハジメ | Tanaka Hajime
Affiliation and department:
Research field  (1): Electric/electronic material engineering
Research keywords  (3): simulation ,  carrier transport ,  semiconductor
Research theme for competitive and other funds  (8):
  • 2024 - 2029 SiC MOS反転層における電子輸送機構の原子論と量子論に基づく解明
  • 2021 - 2026 Materials Science and Device Physics in SiC toward Robust Electronics
  • 2021 - 2024 ワイドギャップ半導体における衝突イオン化現象の理論研究
  • 2021 - 2022 ワイドギャップ半導体での高電界キャリア輸送に関する理論解析
  • 2020 - 2021 低損失パワーデバイスに向けたSiC MOS界面における電子輸送の理論研究
Show all
Papers (41):
  • Koji Ito, Hajime Tanaka, Masahiro Horita, Jun Suda, Tsunenobu Kimoto. Influence of fixed charges and trapped electrons on free electron mobility at 4H-SiC(0001)/SiO2 interfaces with gate oxides annealed in NO or POCl3. Applied Physics Express. 2024. 17. 8. 081003-081003
  • Seyed Ali Mojtahedzadeh, Hajime Tanaka, Nobuya Mori. Carrier transport simulations in twisted bilayer and turbostratic multilayer graphene systems. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 5. 05SP09-05SP09
  • Hajime Tanaka, Tsunenobu Kimoto, Nobuya Mori. Theoretical study on high-field carrier transport and impact ionization coefficients in 4H-SiC. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 173. 108126-108126
  • Seyed Ali Mojtahedzadeh, Hajime Tanaka, Nobuya Mori. Monte Carlo simulation of mobility enhancement in multilayer graphene with turbostratic structure. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 031004-031004
  • Masahiro Hara, Takeaki Kitawaki, Hajime Tanaka, Mitsuaki Kaneko, Tsunenobu Kimoto. Tunneling current through non-alloyed metal/heavily-doped SiC interfaces. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 171. 108023-108023
more...
MISC (8):
  • 岡田 丈, 田中 一, 森 伸也. 半導体ナノシートにおける表面ラフネス散乱で決まる平均自由行程の量子論に基づく数値解析手法. 電子情報通信学会技術研究報告. 2024. 124. 145. 21-24
  • 岡田 丈, 田中 一, 森 伸也. 半導体ナノシートにおける表面ラフネス散乱の量子論に基づく数値解析. 電子情報通信学会技術研究報告. 2023. 123. 250. 10-15
  • 田中 一. SISPAD 2023 レビュー. 電子情報通信学会技術研究報告. 2023. 123. 250. 1-6
  • 森 伸也, 橋本 風渡, 三島 嵩也, 田中 一. ファンデルワールスヘテロ構造におけるバンド間トンネルのNEGFシミュレーション. 電子情報通信学会技術研究報告. 2020. 120. 239. 52-57
  • Modeling of Electron Transport in 4H-SiC MOS Inversion Layers. IEICE technical report. 2018. 118. 291. 35-40
more...
Lectures and oral presentations  (120):
  • Impact of interface structure on electronic states in 4H-SiC inversion layer
    (2024 International Conference on Solid State Devices and Materials 2024)
  • 半導体ナノシートにおける表面ラフネス散乱で決まる平均自由行程の量子論に基づく数値解析手法
    (電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 2024)
  • 金属/高濃度ドープSiC非合金化界面トンネル現象の理解に基づく低抵抗オーミック接合形成
    (シリコンテクノロジー分科会 第251回研究集会 2024)
  • SiCにおける反転層移動度および高電界輸送現象のシミュレーション
    (シリコンテクノロジー分科会 第251回研究集会 2024)
  • Modeling and simulation of carrier transport properties in 4H-SiC
    (2024 International VLSI Symposium on Technology, Systems and Applications 2024)
more...
Education (2):
  • 2013 - 2017 京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
  • 2009 - 2013 Kyoto University Faculty of Engineering School of Electrical & Electronic Engineering
Professional career (1):
  • 博士(工学)
Work history (5):
  • 2020/10 - 現在 Osaka University
  • 2019/04 - 2020/09 Kyoto University
  • 2018/04 - 2019/03 Osaka University
  • 2017/04 - 2018/03 Kyoto University
  • 2015/04 - 2017/03 Kyoto University
Committee career (7):
  • 2023/12 - 現在 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD) 2024 Program Committee Member
  • 2022/08 - 現在 Asia-Pacific Workshop on Advanced Semiconductor Devices (AWAD) Program Committee Member
  • 2021/06 - 現在 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 専門委員
  • 2023/12 - 2024/11 2024 International Conference on Solid-State Devices and Materials (SSDM2024) Steering Committee Member
  • 2021/07 - 2023/10 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD) 2023 Program Vice Chair
Show all
Awards (6):
  • 2023/03 - 英国物理学会 Outstanding Reviewer Award
  • 2023/03 - 応用物理学会 論文奨励賞
  • 2022/03 - 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 研究奨励賞
  • 2016/11 - 応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第3回講演会 研究奨励賞
  • 2015/12 - IEEE EDS Kansai Chapter MFSK Award
Show all
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

Return to Previous Page