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J-GLOBAL ID:202001013521337843   Update date: Jun. 11, 2024

Yamamoto Hiroki

ヤマモト ヒロキ | Yamamoto Hiroki
Affiliation and department:
Job title: 主幹研究員(定常)
Research field  (3): Nanomaterials ,  Material fabrication and microstructure control ,  Quantum beam science
Research keywords  (8): 極端紫外光(EUV) ,  ブロック共重合体 ,  自己組織化 ,  ナノ粒子 ,  リソグラフィ ,  量子ビーム ,  レジスト ,  放射線化学
Research theme for competitive and other funds  (11):
  • 2022 - 2024 EUVリソグラフィ×自己組織化による分子サイズに迫る超極微細加工技術の創製
  • 2020 - 2023 ダイレクトリソグラフィの実現を指向した金属極細線加工材料・プロセスの創出
  • 2016 - 2020 Development of fine wire for mass production to achieve the precision of less than 1 nm
  • 2013 - 2018 Study on nanochemistry in latest nanofabrication materials using quantum beams
  • 2014 - 2017 Creation of Nanofabrication process for extreme quantum beam using organic-inorganice hybrid nanoparticles
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Papers (106):
  • Akihiro Konda, Hiroki Yamamoto, Shusuke Yoshitake, Takahiro Kozawa. Transient Swelling During Development of Poly(methyl methacrylate) Resist. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2024. 37. 1. 81-88
  • Hiroki Yamamoto, Yuko Tsutsui Ito, Kazumasa Okamoto, Shuhei Shimoda, Takahiro KOZAWA. Study on resist performance of inorganic-organic resist materials for EUV and EB lithography. Japanese Journal of Applied Physics. 2024
  • Hiroyuki Maekawa, Yutaro Iwashige, Hiroki Yamamoto, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Hiroto Kudo. Design of High-sensitive Resist Materials Based on Polyacetals. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2023. 36. 1. 31-39
  • Hiroyuki Maekawa, Hiroto Kudo, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa. Higher Sensitive Extreme Ultraviolet (EUV) Resist Materials Derived From p-t-Butylcalix[n]arenes (n = 4 and 8). Journal of Photopolymer Science and Technology. 2020. 33. 1. 45-51
  • Hiroki Yamamoto, Guy Dawson, Takahiro Kozawa, Alex P. G. Robinson. Lamellar Orientation of a Block Copolymer via an Electron-Beam Induced Polarity Switch in a Nitrophenyl Self-Assembled Monolayer or Si Etching Treatments. QUANTUM BEAM SCIENCE. 2020. 4. 2
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MISC (42):
  • 岡本一将, 山本洋揮, 山本洋揮, 古澤孝弘. Approach to Delocalization of Positive Charge on Polystyrene by Pulse Radiolysis and Simulation. 日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM). 2022. 2022
  • 瀬木利夫, 山本洋揮, 古澤孝弘, 荘所正, 小池国彦, 青木学聡, 松尾二郎. 反応性ガスクラスターインジェクションを用いた斜め2方向エッチングによる3D構造の作成. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2018. 65th
  • 岡本一将, 岡本一将, 河合俊平, 山本洋揮, 古澤孝弘. パルスラジオリシスによるフェニルスルホン化合物の放射線化学反応. 日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM). 2018. 2018
  • 岡本一将, 山本洋揮, 小林一雄, 古澤孝弘. フッ素系EUVレジストモデル分子の放射線誘起初期過程. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2018. 79th
  • 堀成生, 岡本一将, 岡本一将, 山本洋揮, 室屋裕佐, 古澤孝弘, 大沼正人. 液体フェニルシラン誘導体のパルスラジオリシス. 放射線化学討論会講演要旨集. 2018. 61st
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Lectures and oral presentations  (29):
  • 主鎖分解型レジスト溶解挙動の分子量依存性
    (第60回放射線化学検討会)
  • 電子線誘起によるニトロフェニルSAMの極性変化を用いたブロック共重合体のラメラ配向制御
    (第60回放射線化学討論会)
  • トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御
    (第78回応用物理学会秋季学術講演会)
  • メタルレジストの反応機構に関する研究
    (第64回応用物理学会春季学術講演会)
  • ニトロフェニル自己組織化単分子膜における電子線誘起極性変化によるブロック共重合体のラメラ配向
    (第64回応用物理学会春季学術講演会)
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Professional career (1):
  • 博士(工学) (大阪大学)
Work history (7):
  • 2019/04 - 現在 Gunma University
  • 2018/07 - 現在 National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology
  • 2018/01 - 現在 Osaka University The Institute of Scientific and Industrial Research
  • 2018/01 - 2018/06 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部 主任研究員(定常)
  • 2011/08 - 2017/12 Osaka University The Institute of Scientific and Industrial Research
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Committee career (3):
  • 2018/04 - 現在 高分子学会 印刷・情報・電子用材料研究会 運営委員
  • 2018/04 - 現在 ラドテック研究会 理事
  • 2013/04 - 現在 マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議 論文委員/プログラム委員
Awards (5):
  • 2018/10 - MNC 2018 Most impressive Poster Award
  • 2018/09 - 日本放射線化学賞
  • 2017/10 - DPS-2017 Best Presentation Award
  • 2008 - APSRC-2008 Poster Award
  • 2007/10 - MNC2007 Most impressive Poster Award
Association Membership(s) (4):
ラドテック研究会 ,  高分子学会 ,  応用物理学会 ,  日本放射線化学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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