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J-GLOBAL ID:202101017946574558   Update date: Oct. 31, 2024

Takeuchi Masaya

タケウチ マサヤ | Takeuchi Masaya
Affiliation and department:
Job title: Assistant professor
Research field  (3): Thin-film surfaces and interfaces ,  Quantum beam science ,  Quantum beam science
Research keywords  (5): synchrotron radiaiton ,  Nanoprocess ,  Microfabrication ,  Cluster ion beam ,  Surface science
Research theme for competitive and other funds  (5):
  • 2023 - 2026 ジケトン分子吸着過程およびガスクラスターイオンビーム照射による表面反応過程の解明
  • 2022 - 2025 Ultra-precise fabrication technology by location specific atomic layer etching with cluster beam
  • 2022 - 2023 溶液の高感度XPS測定用窓材料のガスクラスターイオンビームによる原子層エッチング
  • 2022 - 2023 ガスクラスターイオンビームによるXPS溶液測定用セルの光電子検出窓の高性能化
  • 2022 - 2023 ガスクラスターイオンビームを用いた極薄SiN膜の耐圧性向上の検討
Papers (20):
  • Masaya Takeuchi, Satoru Suzuki, Masaki Nakamura, Takashi Hata, Yusuke Nishiuchi, Kaori Tada, Noriaki Toyoda. Highly sensitive electron-beam-induced X-ray detection from liquid using SiNx membrane ultra-thinned by gas cluster ion beams. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 7. 07SP04-07SP04
  • Masaya Takeuchi, Noriaki Toyoda. Pressure resistance evaluation of an ultrathin SiNx membrane etched by a gas cluster ion beam. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 2024. 550. 165317-165317
  • Masaya Takeuchi, Reki Fujiwara, Noriaki Toyoda. Atomic layer etching of silicon nitride film by oxygen gas cluster ion beam with acetylacetone. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SG. SG1051-SG1051
  • Hanahara, S., Takeuchi, M., Toyoda, N. Surface preparation of metal films by gas cluster ion beams using organic acid vapor for Cu-Cu bonding. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SF. SF1004-SF1004
  • Kohzo Tamada, Sho Amano, Kana Okamoto, Masaya Takeuchi, Akinobu Yamaguchi, Yuichi Utsumi, Tohru Yamasaki. Fabrication of Ni-W microgears using LIGA process. Sensors and Materials. 2021. 33. 12. 4455-4460
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Lectures and oral presentations  (27):
  • High Sensitivity of Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy Measurement Using Liquid Cell with Electron Transmittance Window Ultra-Thinned by a Gas Cluster Ion Beam
    (Prime2024 2024)
  • Investigation of modification process of SiNx film by a gas cluster ion beam irradiation
    (24th International Conference on Ion Implantation Technology 2024 2024)
  • X-ray PEEM測定用液体セルに向けたGCIB照射による極 薄SiNxメンブレンの応力制御
    (第85回応用物理学会秋季学術講演会 2024)
  • 液体、気体、生物試料の真空中分析
    (第84回分析化学討論会)
  • GCIB照射で極薄化した電子線透過窓を用いた液体セルによるSEM/EDS検出の高感度化
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
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Education (3):
  • 2017 - 2020 University of Hyogo Graduated school of engineering Department of Materials and Synchrotron Radiation Engineering
  • 2015 - 2017 University of Hyogo Graduated school of engineering Department of Materials and Synchrotron Radiation Engineering
  • 2011 - 2015 University of Hyogo School of Engineering Department of Electrical Engineering and Computer Sciences
Professional career (1):
  • PH.D.(Engineering) (University of Hyogo)
Work history (4):
  • 2021/06 - 現在 東京大学 物性研究所 嘱託研究員
  • 2021/04 - 現在 University of Hyogo Graduate School of Engineering Assistant professor
  • 2020/07 - 2021/03 The University of Tokyo
  • 2020/04 - 2020/07 University of Hyogo Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry
Committee career (4):
  • 2024/04 - 現在 応用物理学会 応用物理学会 関西支部
  • 2023/04 - 現在 電気学会 量子ビームによる機能性ミクロ構造創生とバイオメディカルシステム応用技術調査専門委員会
  • 2022/04 - 2024/03 電子情報通信学会 関西支部運営委員
  • 2021/04 - 2023/03 電気学会 量子ビームによるナノ構造・界面形成とバイオメディカル応用技術調査専門委員会
Awards (5):
  • 2024/02 - 電気学会 電子情報・システム部門 光・量子デバイス研究会 技術委員奨励賞 GCIBエッチングを用いたSiNx膜の極薄化と液体セル電子透過窓への適用
  • 2022/05 - 応用物理学会 第52回(2022年春季)応用物理学会講演奨励賞 GCIBを用いた原子層エッチングによるSi3N4膜の極薄化及びその耐圧性評価
  • 2018/07 - The 9th Japan-China-Korea Joint Conference on MEMS/NEMS Best Presentation Award Characteristics of new deep X-ray lithography beamline (BL11) at NewSUBARU
  • 2018/03 - 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 先端技術セミナー 2018 学生ポスター賞 汎用ディープX線リソグラフィービームライン(BL11)を用いた大面積均一加工の検討
  • 2016/10 - 応用物理学会 第8回集積化MEMSシンポジウム (口頭発表) 研究奨励賞 免疫測定のための高精度単位化学操作を実現するLab-on-a-CDの提案
Association Membership(s) (3):
応用物理学会 ,  電気学会 ,  電子情報通信学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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