SEKUGUCHI Atsushi

セキグチアツシ | SEKUGUCHI Atsushi

Affiliation and department：
Job title： Professor

Research field (2)： Thin-film surfaces and interfaces , Electronic devices and equipment

Research keywords (6)： Plasma Application , Microfabrication , Chemical Vapor Deposition , Surface Science , Thin Film Technology , Vacuum Engineering

Papers (53)：

A. Taguchi, S. Takahashi, A. Sekiguchi, K. Kaneko, S. Fujita, T. Onuma, T. Honda, T. Yamaguchi. Mist Chemical Vapor Deposition Growth of alpha-In2O3 Films Using Indium Oxide Powder as Source Precursor. physica status solidi (b). 2021. 259. 2100414-1-2100414-4
Tomohiro Yamaguchi, Subaru Takahashi, Takanori Kiguchi, Atsushi Sekiguchi, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita, Hiroki Nagai, Mitsunobu Sato, Takeyoshi Onuma and Tohru Honda. Impact of hydrochloric acid on the epitaxial growth of In2O3 films on (0001)α-Al2O3 substrates by mist CVD. Applied Physics Express. 2020. 13. 075504-1-075504-4
Hideo Takami, Atsushi Sekiguchi. ガラスナノピペットのガスフローコンダクタンスの研究. 工学院大学総合研究所年報第26号 2018 年度. 2019. 26. 108-115
関口敦,佐々木美桜,佐藤杏佳,新谷駿,及川実那子,遠藤和佳奈,佐藤天大. 小学生および保護者のための真空体験教室開催報告-第26回工学院大学わくわくサイエンス祭科学教室-. The Japan Society of Vacuum and Surface Science. 2019. 61. 12. 736-739
関口敦,鈴木美由菜,関根智七海,川口功太郎,鈴木有里沙,土屋沙織. 小学生および保護者のための真空体験教室開催報告-第25回工学院大学わくわくサイエンス祭科学教室-. Vacuum and Surface Science. 2018. 61. 12. 809-812

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MISC (3)：

松橋亮,小出知昭,関口敦. 貫通電極形成. 電子材料. 2006. 45. 11
関口敦,小出知昭. MEMS 用金属膜の CVD による貫通配線. 電子材料. 2006. 43. 11
関口敦. メタルCVD装置における液体流量制御の使用事例. 計測技術. 1997. 1997. 10

Patents (42)：

銅薄膜形成方法
銅薄膜形成方法
Cu-CVDプロセス用原料とCu-CVD装置
銅配線膜形成方法
窒化チタン薄膜の作製方法及びCVD装置

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Books (3)：

トコトンやさしい真空技術の本
日刊工業新聞社 2019 ISBN:9784526080074
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用
コロナ社 2016 ISBN:9784339046502
Microchemistry Spectroscopy and Chemistry in Small Domains
North-Holland 1994 ISBN:0444815139

Lectures and oral presentations (25)：

Impact of gas type on formation of twin structure in the growth of a-Ga2O3 by mist chemical vapor deposition
(The 10th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors (APWS 2022) 2022)
Importance of dissolving source precursor of Ga(C5H7O2)3 with HCl in mist CVD for α-Ga2O3 growth
(2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM202) 2022)
ミスト化学気相成長法コランダム構造酸化ガリウム薄膜のガス種による双晶形成への影響
(第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022)
Carrier gas type dependence of Ga2O3 thin film grown by mist Chemical Vapor Deposition
(The 20th International Symposium on Advanced Technology (ISAT-20) 2021)
Impacts of hydrochloric acid concentration and ,growth temperature on mist chemical vapor deposition ,growth of Ga2O3
(6th International Conference on Advanced Electromaterials 2021)

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Professional career (1)：

Doctor (Science) (Aoyama Gakuin University Graduate School)

Work history (7)：

2024/06 - 現在 Kogakuin University Education Support Functions Professor
2004/04 - 現在 Aoyama Gakuin University Graduate School Science and Engineering part-time teacher
2020/04 - 2024/06 Kogakuin University Education Support Function Professor
2023/04 - Aoyama Gakuin University Graduate School Graduate School of Science and Engineering, Material Science Course Visiting Professor
2016/04 - 2020/03 Kogakuin University Academic Support Center Teacher

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Committee career (12)：

2024/05 - 現在公益社団法人日本表面真空学会功労会員
2024/04 - 現在公益社団法人日本表面真空学会規格標準化委員会
2013/04 - 現在公益社団法人日本表面真空学会教育・育成委員会委員
2019/05 - 2024/05 公益社団法人日本表面真空学会協議員
2020/05 - 2021/04 公益社団法人日本表面真空学会 JIS 原案作成委員会委員

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Awards (3)：

2024/05 - The Japan Society of Vacuum and Surface Science JVSS Meister CVD成膜装置の開発とCVD技術普及への貢献
2022/05 - 一般社団法人日本真空工業会感謝賞真空ウォーキングコース開催に関する協力に関して
2013/02 - Kawasaki-Shi かわさき環境ショーウインドウ大賞 2012 社内実験設備に関する電力モニターシステムの構築と消費電力削減活動

Association Membership(s) (4)：

The Japan Society of Vacuum and Surface Science , AVS , The Japan Society of Applied Physics , The Chemical Society of Japan

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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